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三星造出 900 层闪存原型

时间:2026/05/27

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5 月 25 日消息,据外媒报道,三星借助单元多层键合(CMB)技术,将两片 450 层 3D NAND 晶圆结合,

成功打造出全球首款 900 层超高堆叠 3D NAND 闪存原型,且存储单元性能已完成验证。

这项技术通过两片 450 层晶圆垂直整合,打破了传统单次堆叠的层数上限。为保障产品良率,三星自研上部卡盘技术,

攻克高堆叠晶圆翘曲问题,并搭配全新套刻校正技术,将键合对准误差控制在纳米级别。此外,产品还优化了位线与字线架构,

在提升存储密度的同时,实现功耗与体积同步优化。

3D NAND 堆叠层数是决定存储密度的关键指标,广泛应用于 AI 服务器、数据中心 SSD 及旗舰手机等领域。

目前行业量产主力为 SK 海力士 321 层 4D NAND;三星计划今年量产 400 层以上第十代 V-NAND,

而本次 900 层原型的落地,进一步拉开了其在高端闪存领域的技术优势。

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