拓荆并购补齐刻蚀 PVD
7 月 1 日讯，半导体设备龙头拓荆科技披露公告，公司拟通过发行股份搭配现金支付，收购无锡尚积半导体控股权。
本次并购旨在完善薄膜沉积、刻蚀赛道业务版图。无锡尚积 2021 年成立，主营 PVD、干法刻蚀、CVD 等关键半导体设备。
截至目前拓荆科技市值 2352 亿元，2025 年营收 65.19 亿元，同比大增 58.87%。
截至目前拓荆科技市值 2352 亿元，2025 年营收 65.19 亿元，同比大增 58.87%。
收购落地后，拓荆将补齐 PVD 与干法刻蚀业务短板，助力企业从单一设备厂商转型为全流程核心工艺方案服务商。
2024 年 12 月拓荆被纳入美国实体清单，本次并购是应对外部技术封锁的关键战略布局。
2024 年 12 月拓荆被纳入美国实体清单，本次并购是应对外部技术封锁的关键战略布局。
同期中微公司亦完成对杭州众硅的收购。业内表示，头部设备企业接连并购，背后有国家大基金政策加持，意在通过产业整合强化国产半导体自主实力。
目前本次交易仍在筹划阶段，标的估值、交易对价暂未敲定。
