日三大 EUV 光刻胶巨头扩产争 2nm

时间：2025/11/04

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11 月 3 日消息，EUV 是 5nm 后先进工艺关键，光刻机仅荷兰 ASML 能产，而日本在 EUV 光刻胶领域优势显著，正积极布局 2nm 及以下节点扩产。

日本东京应化工业计划投资 1.3 亿美元，在韩国平泽建光刻胶工厂，2030 年投产。平泽是三星、SK 海力士重要基地，投产后其韩国产能将翻三四倍。该公司还将追加

120 亿日元，在韩建高纯度化学厂，服务先进工艺。同为巨头的 JSR 公司，将在韩建 MOR 型光刻胶工厂，明年底即可量产。百年企业 Adeka 阿德卡，则斥 32 亿日元

在日建同类工厂，预计 2028 年 4 月投产。MOR 型光刻胶以金属氧化物为基础，专为 EUV 工艺研发，国内也在推进相关研发与产线建设。目前日本企业在全球光刻胶

市场占比超 91%，虽本土无 2nm 芯片厂，但通过海外布局，全力抢占 2nm 及以下工艺先机。

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