英伟达牵线,三星台积电联手
10 月 19 日消息,AI 市场高带宽内存(HBM)需求持续暴涨,英伟达正推进一项突破性供应链整合方案。
消息显示,
英伟达为下一代 AI 加速器打造定制 NVHBM,促成宿敌三星电子与台积电合作,联合开发 3 纳米基底芯片(Base Die)。
三星以往 HBM 采用交钥匙模式,核心存储芯片与基底芯片均自主设计制造。但英伟达 NVHBM 对制程标准化要求极高,
因此要求三星与台积电共同开发 3nm 基底芯片,统一产品规范,简化质量验证流程。
美光、SK 海力士也一并纳入该计划。英伟达目标是统一制造标准,让多家厂商供货的 HBM 性能保持一致。
此前消息透露,Feyman 架构 GPU 将搭载这套定制 NVHBM。对比标准 HBM4E,NVHBM 带宽最高提升 30%,功耗最多下降 15%。
方案要求:NVHBM 基底芯片统一使用台积电 3 纳米工艺,核心存储芯片采用第六代 DRAM(1c 节点)。
统一制程的核心目的是保证产品性能一致。
基底芯片全部交由台积电 3nm 工艺生产后,英伟达不用针对各家厂商单独验证,节省大量工程资源,加速产品落地。
三星并未完全放弃自有晶圆代工产能,仍在评估内部产线,以备 NVHBM 需求超出台积电产能上限。
同时,三星自研标准 HBM 的核心与基底芯片业务保持不变。即便要和竞争对手台积电合作,三星也愿意以此保住英伟达 AI 供应链席位。
HBM 已经成为改善三星代工业务盈利的关键。数据显示,三星代工业务亏损从 2025 年 6.74 万亿韩元收窄至 2026 年 3.92 万亿韩元,
降幅 41%。高毛利 HBM 被视作持续扭亏的重要抓手。
分析指出,英伟达推动 NVHBM 标准化,既能统一性能、提升供货效率,也打破存储厂商各自独立研发的旧模式。
AI 基建竞争白热化,原本激烈博弈的三星与台积电,因英伟达订单达成临时合作,足以看见 AI 产业正在深刻重塑全球半导体供应链。
