10 月 14 日消息，第二十六届中国国际工业博览会于上海国家会展中心举办，朗道燧岩首次展出 EUV 光源系统样机。

这是国内公开亮相进度最领先的国产 EUV 光源样机，作为高端光刻机的核心 “心脏”，本次展出标志国产 EUV 光源实现重大突破，

迈出从实验室走向产业化的关键一步。

EUV 光源是 7nm 及以下先进制程芯片三大核心部件之一，长期受制于海外技术封锁，是国内高端芯片自主可控的关键卡点。

据现场介绍，该样机国产化率达 90%，核心部件大多自研，技术路线对标国际大厂，可开展芯片曝光测试，但距离量产仍需 3 至 5 年。

官网资料显示，其低功率 EUV 光源 FlintNano LPP-OXXO 已进入产品化阶段，驱动激光功率 1000W，激光频率 1–20kHz，

转换效率超 2%，EUV 输出大于 15W，可连续工作超 100 小时，等离子体尺寸 60 微米；高功率 FlintMicro-LPP 系列已完成原理论证。

朗道燧岩专注半导体设备研发制造，创始人王豪博士团队脱胎于清华大学气体放电等离子体实验室，主攻 LPP-EUV 光刻光源攻关卡脖子难题。

公司 2024 年成立，2025 年获天使轮融资，2026 年先后完成天使 + 轮、A 轮融资，投资方包含张江高科燧玥创投、沃衍资本、中芯聚源等机构。