国产光刻胶获重大突破
5 月 12 日消息，国产半导体产业链自主化再获关键突破。上海 AI 实验室牵头的联合攻关团队，成功攻克芯片制造核心材料高端光刻胶稳定制备难题。
上海 AI 实验室通过官方公众号披露，光刻胶是芯片制造最关键的基础材料之一，其纯度、均匀度直接决定芯片性能与量产良率，
长期以来是我国半导体产业 "卡脖子" 的核心环节。
长期以来是我国半导体产业 "卡脖子" 的核心环节。
本次突破依托 "2030 新一代人工智能" 国家科技重大专项部署。上海 AI 实验室联合厦门大学、苏州国家实验室等单位，
基于书生科学大模型与书生科学发现平台，构建了 "AI 决策 + 自动化合成" 全闭环研发体系，
最终实现高纯度、高一致性 KrF 光刻胶树脂的完全自主创制。
基于书生科学大模型与书生科学发现平台，构建了 "AI 决策 + 自动化合成" 全闭环研发体系，
最终实现高纯度、高一致性 KrF 光刻胶树脂的完全自主创制。
这一核心技术突破，彻底打破了高端光刻胶树脂稳定制备长期依赖极少数海外供应商 "黑箱技术" 的被动局面，
为全球芯片材料领域探索出一条可标准化落地、支持技术快速迭代的全新研发范式。
为全球芯片材料领域探索出一条可标准化落地、支持技术快速迭代的全新研发范式。
目前，这套自主研发平台已完成多批次自动化合成与性能验证，不同批次光刻胶树脂的产品一致性实现了历史性提升。
厦门恒坤新材料凭借多年光刻胶配方开发经验，已顺利完成自研树脂与终端应用配方的适配，所有产业关键指标均达到设计要求，
后续产品将正式进入下游芯片制造厂商的验证阶段。
厦门恒坤新材料凭借多年光刻胶配方开发经验，已顺利完成自研树脂与终端应用配方的适配，所有产业关键指标均达到设计要求，
后续产品将正式进入下游芯片制造厂商的验证阶段。
