2 月 25 日消息，荷兰 ASML 作为全球唯一实现 EUV 光刻机量产的厂商，其现有设备仍面临多项技术局限，尤以光源功率不足的问题最为突出，

直接制约了产能的进一步提升。

近日 ASML 公布一项重大技术突破：成功将 EUV 光源功率翻倍提升至 1000W，实现革命性升级。据官方信息，当前量产 EUV 光刻机光源功率约 600W，

每小时晶圆产能仅 220 片；待光源功率提升至 1000W 后，产能将同步增至 330 片 / 小时，提升幅度达 50%。

该技术突破的核心原理在于，ASML 采用 1um 预脉冲（PP）取代了原有 10um 方案，同时将锡滴喷射频率从每秒 5 万次提升至 10 万次，

以此实现 EUV 光产出效率的大幅提升。该技术架构不仅可支撑 1000W 功率目标，未来还能进一步拓展至 1500W 甚至 2000W 级别，

持续释放 EUV 光刻机的效率与产能潜力，大幅降低先进芯片的制造成本。

不过该技术目前尚未实现量产，正式落地应用仍需数年时间。此次突破也让 ASML 的行业领先优势再度强化，竞争对手的追赶难度进一步加大。

值得关注的是，该项核心技术的研发团队汇集了全球科研力量，其中包含多名中国籍研究人员。相关技术论文的作者列表中，Qiushi Zhu、Yue Ma、

Haining Wang 均位列其中，Haining Wang 更是该论文的第一作者及宣讲人。

履历信息显示，Haining Wang 二十余年前曾荣获国家优秀自费留学生奖学金，2016 年取得美国康奈尔大学博士学位，同年加入 ASML，

担任 EUV 研发部门科学家及架构师，长期专注于 LPP 等离子体技术路线的研发与基础物理研究工作。