12月7日消息，此前日本拟断供光刻胶的传闻引发行业关注，尽管日方已否认，但光刻胶领域“日本主导”的格局仍未改变，尤其先进EUV光刻胶，目前核心技术

仍由日本JSR、信越化学、东京应化TOK等企业掌控。 早年前日韩贸易争端期间，日本曾暂停对韩出口光刻胶等三类关键半导体材料。此后韩国持续推进半导体核心技术与材料国产化，不过外界传言“韩国已解决

EUV光刻胶自主”并非事实——所谓“突破”实则是日本企业为规避政策限制，将供货主体从本土转为海外公司，三星、SK海力士等韩企仍依赖日本EUV光刻胶供应。 与三星不同，SK海力士主营存储芯片，此前对EUV光刻胶需求有限，但随着内存工艺持续升级，EUV光刻已成为刚需。为此，SK海力士联合韩国东进世美肯公司

合作开发EUV光刻胶，目标不仅是实现对日本产品的替代，更要在性能上实现超越。 双方重点攻关光刻胶的光敏性指标，光敏性越强，曝光时间越短，生产效率越高。即便搭载同款EUV光刻机，高性能光刻胶也能显著提升产能。当前内存芯片工艺

已逼近10nm及以下，EUV光刻层数持续增加，第七代1d工艺已需7层EUV光刻，且未来层数还将进一步提升，这也让自主EUV光刻胶的研发更具紧迫性。