10 月 27 日消息，长期跟踪 ASML、著有《芯片制造：光刻巨头 ASML 传奇之路》的荷兰科技记者马克・海金克，

抛出最新研判：在光刻设备出口管制全面收紧前，国内已储备可观规模的 ASML 光刻机，为芯片领域的技术持久战打下设备缓冲基础。

根据其调研估算，国内共有八百余台 ASML 光刻机，其中半数归属本土企业，其余部署于三星、SK 海力士等外资在华厂区。

该数据并非官方口径，但印证了窗口期内国内企业集中采购 DUV 设备的事实。

这批存量设备成为先进工艺突围的重要依托。2022 年，国内厂商依托 DUV 搭配多重曝光工艺，实现等效 7nm 芯片制造；

2023 年，采用该工艺的芯片已应用于国产 5G 手机。多重曝光方案代价明显，工艺更繁琐、成本抬升且良率管控难度更高，

却是 EUV 断供之下争取发展时间的可行路径。

管制仍在持续加码。2024 年荷兰收回部分 NXT:2050i、NXT:2100i 浸润式 DUV 对华出口许可；

后续美方又推动管控延伸至存量设备维保，意图锁死已交付设备的持续运转。

外部高压，倒逼国产光刻设备加速成长。海金克回忆 2018-2019 年随同 ASML 前 CTO 访华见闻：彼时国产光刻机尚停留在 90nm 阶段，

但研发路线已瞄准 28nm 浸润机型。他评价，国内半导体技术的推进方式往往出人意料、富有创造性。

八百多台 ASML 存量设备只争取来了发展窗口期，并非最终答案；这场持久战的胜负，最终取决于国产光刻机从 90nm 向 28nm 及更先进节点的突破速度。