8 月 25 日消息，据媒体报道，美国政府计划施压荷兰进一步收紧对华出口管制，拟禁止向中国出口几乎全部芯片制造设备，

其中包含深紫外（DUV）光刻机，意图遏制我国人工智能、超算以及军事相关技术的发展。

此前，在美国持续施压下，荷兰已禁止对华出口最先进的极紫外（EUV）光刻设备。自 2019 年起，

荷兰光刻机企业 ASML 便未向中国交付过 EUV 设备，同时也限制了部分先进 DUV 光刻机的对华销售。而美方此次新动作，旨在堵上现存的管制漏洞。

当前美国国会正在审议跨党派法案《硬件技术管制多边协调法案》（MATCH Act），该法案试图把以往的外交施压转化为硬性胁迫，

要求所有盟国全面对齐美国的出口管制政策。

法案如若落地，荷兰企业不仅不能对华出售全新 DUV 光刻设备，就连已交付设备的日常维保服务也将遭到禁止。

倘若荷兰拒不配合，美国将实施制裁。ASML 等荷兰半导体设备厂商高度依赖美国的零部件与核心技术，美国多次以切断供应链作为要挟，

这也是荷兰政府此前被迫妥协的重要原因。

业内分析认为，倘若美方禁令存在市场缓冲过渡期，对我国未来数年 DUV 光刻机新增装机的影响相对有限；但倘若禁令快速实施，

短期内会给国内芯片制造企业带来不小的过渡难题，设备维保、产线稳定运行或将承受较大压力。