浸没式 ArF 胶正式量产交付
6 月 11 日消息,在半导体先进制造领域,除光刻机外,高端光刻胶也是国内产业亟待突破的关键环节。近日,鼎龙股份传来重大进展,
其高端光刻胶产品已正式进入国内头部晶圆厂实现供货。
其高端光刻胶产品已正式进入国内头部晶圆厂实现供货。
据公司晚间公告,自今年 3 月 20 日年产 300 吨 KrF/ArF 高端晶圆光刻胶产线投产以来,鼎龙股份已向两家头部晶圆厂
交付数百加仑浸没式 ArF 与 KrF 光刻胶,产品成功应用于客户量产产线。凭借稳定优异的性能,两家客户近期再追加近 1000 加仑订单。
交付数百加仑浸没式 ArF 与 KrF 光刻胶,产品成功应用于客户量产产线。凭借稳定优异的性能,两家客户近期再追加近 1000 加仑订单。
截至目前,公司共有 8 款高端光刻胶斩获国内主流晶圆厂批量订单,包含 ArF、KrF 光刻胶各 4 款,较一季度新增 5 款,
另有多款产品预计年内落地订单。随着产能与交付能力持续提升,今年上半年产品出货量将大幅增长,商业化步伐全面提速。
另有多款产品预计年内落地订单。随着产能与交付能力持续提升,今年上半年产品出货量将大幅增长,商业化步伐全面提速。
研发测试层面,公司累计布局 40 余款高端光刻胶,近 30 款已送至客户验证,其中十余款进入加仑样测试阶段。
此次突破颇具行业价值。此前国内已有多家企业推出 ArF 光刻胶样品,但大多未明确标注技术等级。而鼎龙股份此次明确提及浸没式 ArF 光刻胶,
代表产品达到行业高阶水平。在 DUV 光刻体系中,普通干式 ArF 光刻胶多用于 28nm 及以上工艺,浸没式 ArF(ArFi)则
适配 14nm 至 7nm 先进制程,技术壁垒显著更高。
代表产品达到行业高阶水平。在 DUV 光刻体系中,普通干式 ArF 光刻胶多用于 28nm 及以上工艺,浸没式 ArF(ArFi)则
适配 14nm 至 7nm 先进制程,技术壁垒显著更高。
作为半导体核心材料,高端 ArF 光刻胶价值不菲,参考过往行业数据,其单价可达千万元每吨,叠加近年原材料与供应链涨价,产品经济价值进一步凸显。
现阶段国内仅有少数企业实现浸没式 ArF 光刻胶送样及供货,除鼎龙股份外,仅南大光电此前公布过相关样品进展,
其余厂商大多停留在常规 ArF、KrF 光刻胶阶段。出于产业保密等因素,各家企业均未公开详细技术参数,这也让国产高端光刻胶的国产化进程备受市场关注。
其余厂商大多停留在常规 ArF、KrF 光刻胶阶段。出于产业保密等因素,各家企业均未公开详细技术参数,这也让国产高端光刻胶的国产化进程备受市场关注。
