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英伟达扩代工降低风险

时间:2026/03/25

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3月24日消息,在上周举行的GTC大会上,NVIDIA进一步披露了下一代GPU架构Feynman(费曼)的路线图,该架构预计将于2028年推出。 Feynman不仅将搭载自研HBM芯片,还将首次采用Die Stack 3D堆叠封装技术,其GPU核心将首发台积电1.6nm A16工艺。

这也是NVIDIA时隔多年再度拿下台积电新工艺首发权,上一次还要追溯至55nm时代。在移动终端时代,台积电新工艺首发几乎被苹果包揽,

而随着AI时代到来,这一格局再度改写。 A16工艺是台积电2nm N2节点的改良版本,在GAA晶体管架构基础上新增SRP背面供电技术,可显著提升晶体管密度、性能与供电效率,

更适合高性能计算(HPC)场景,而非低功耗芯片,因此苹果并未争夺此次首发。 据台积电数据,相比2nm增强版N2P工艺,A16可实现8%~10%性能提升或15%~20%功耗降低,晶体管密度提升7%~10%。 不过,NVIDIA拿下A16首发也面临诸多挑战,核心问题在于产能有限且提升不及预期。A16工艺到明年底月产能仅2万片晶圆,2028年将翻倍至4万片;

而整个2nm工艺家族月产能预计可达20万片,A16占比偏低。 受产能限制,费曼GPU将采用混合工艺方案:对性能、功耗敏感的核心GPU Die采用A16工艺,非核心部分则使用台积电N3P工艺,以控制成本。 事实上,NVIDIA早已意识到过度依赖台积电先进产能存在风险,也不利于议价,因此正积极拓展其他代工厂合作。此次发布的LPU芯片便由三星代工,

未来还有望采用Intel EMIB-T封装技术,若合作顺利,不排除后续GPU使用Intel 14A工艺代工的可能。

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