9 月 3 日消息，EUV 光刻机光学元件独家供应商德国蔡司半导体负责人 Frank Rohmund 在采访中预判，中国造出 EUV 光刻机大概还需 15 年，

同时坦言国内实际研发进度难以量化。

ASML 是全球唯一 EUV 光刻机厂商，该设备是制造高端 AI 芯片的核心，美国以此为抓手实施对华芯片出口限制，

还在推动管制范围扩大至全部 DUV 光刻机。

Rohmund 认为，进一步加码管制对行业弊大于利，并不会达到预期效果，反而会倒逼中国加速技术自主创新，

这一观点和 ASML CEO 此前看法相近。他也认可国内在浸润式 DUV 上已有突破，相关研发积累历经数十年，

但同时表示双方技术差距依旧显著，国产设备实际性能仍有待观察。

蔡司供应全球近八成芯片所用光学元件，ASML 在 2017 年斥资 10 亿欧元收购了蔡司半导体的少数股权。